TRATAMIENTO DE BAJA TEMPERATURA SEGURO Y CONTROLADO

El plasma de baja temperatura (50–70 °C) permite tratar superficies sensibles sin riesgo de deformación térmica, garantizando una activación superficial eficaz incluso en materiales delicados o de bajo punto de reblandecimiento.

MÁXIMA SEGURIDAD ELÉCTRICA EN EL PROCESO

Gracias a un voltaje electrostático inferior a 23 V, el sistema asegura un tratamiento estable y seguro tanto para el operario como para la pieza, minimizando descargas, interferencias y riesgos en entornos industriales.

TECNOLOGÍA ANALÓGICA ROBUSTA Y FIABLE

La arquitectura analógica prioriza la estabilidad del proceso y la fiabilidad a largo plazo, reduciendo la complejidad electrónica y asegurando un funcionamiento constante incluso en condiciones industriales exigentes.

CONTROL PRECISO DE POTENCIA Y FRECUENCIA

La regulación analógica de potencia y frecuencia (20–23 kHz) permite ajustar el tratamiento a cada aplicación, logrando una activación superficial consistente y repetible en procesos de baja y media exigencia.

IDEAL PARA PROCESOS LENTOS Y LOTES PEQUEÑOS

Con velocidades de proceso entre 1 y 10 m/min, el plasma analógico es especialmente adecuado para producciones no continuas, cambios frecuentes de referencia o trabajos por lotes donde prima el control frente a la velocidad.

COMPATIBILIDAD CON DIFERENTES CABEZALES

El sistema es compatible tanto con cabezal de punta como con cabezal rotativo, ofreciendo flexibilidad para adaptarse a distintas geometrías de pieza sin necesidad de cambiar de generador.

INTEGRACIÓN SENCILLA EN LÍNEAS EXISTENTES

El control externo mediante relé de arranque y parada facilita una integración rápida en líneas de producción existentes, sin necesidad de protocolos de comunicación complejos ni desarrollos adicionales.

DIAGNÓSTICO BÁSICO PARA UN MANTENIMIENTO EFICIENTE

Las alarmas esenciales de presión y protección eléctrica permiten detectar incidencias críticas de forma rápida, simplificando el mantenimiento y facilitando la intervención directa del operario.

FUENTE DE ALIMENTACIÓN EFICIENTE Y ESTABLE

La fuente de alimentación con tecnología PFC y arquitectura DPM mejora la eficiencia energética y reduce interferencias eléctricas, garantizando una alimentación estable del plasma durante todo el ciclo de trabajo.

GENERACIÓN DE PLASMA HOMOGÉNEA Y CONSTANTE

El inversor de puente completo con salida de onda cuasi-sinusoidal asegura una descarga uniforme, mejorando la calidad del tratamiento superficial y la repetibilidad del proceso.

DISEÑO MODULAR Y COMPACTO

Su diseño modular y escalable permite una configuración ajustada a la aplicación real, optimizando el espacio en planta y facilitando futuras ampliaciones sin rediseñar toda la instalación.

SOLUCIÓN RENTABLE PARA APLICACIONES INDUSTRIALES BÁSICAS

El plasma analógico ofrece una excelente relación coste-prestaciones, convirtiéndose en la solución ideal para tratamientos superficiales estándar donde no se requieren altas velocidades ni automatización avanzada.